Laboratorio de Materiales avanzados multifuncionales

Tiene por finalidad la preparación, en forma controlada, de películas delgadas de espesores del orden de los nanómetros de diferentes materiales sobre substratos de silicio, metálicos y polímeros.

Además, cuenta con un sistema diseñado en nuestro departamento, llamado “sistema de curvatura del substrato”, que permite medir el estrés interno que las películas delgadas adquieren durante su proceso de crecimiento.

El laboratorio está en condiciones de preparar películas delgadas de una serie de elementos bajo diferentes condiciones de deposición (presión, temperatura, energía de iones de argón, etc.)

Esto permite la manipulación de su estructura interna y propiedades tanto físicas como químicas y el nivel de estrés de las películas producidas.

Equipamiento e instrumentos

  • Sistema de Magnetron Sputtering, para preparación de películas delgadas
  • Sistema de curvatura del substrato, para medida del estrés de las películas delgadas
  • Balanza de precisión Shimadzu de hasta los 0,1 mg

Académico responsable

  • Rodrigo Espinoza

Contacto

Rodrigo Espinoza
Teléfono: +562 29784239
Correo elecrónico: roespino@ing.uchile.cl

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