Laboratorio de Materiales Avanzados Multifuncionales - LabMAM

Tiene por finalidad la preparación, en forma controlada, de películas delgadas de espesores del orden de los nanómetros de diferentes materiales sobre substratos de silicio, metálicos y polímeros.

Además, cuenta con un sistema diseñado en nuestro departamento, llamado “sistema de curvatura del substrato”, que permite medir el estrés interno que las películas delgadas adquieren durante su proceso de crecimiento.

El laboratorio está en condiciones de preparar películas delgadas de una serie de elementos bajo diferentes condiciones de deposición (presión, temperatura, energía de iones de argón, etc.)

Esto permite la manipulación de su estructura interna y propiedades tanto físicas como químicas y el nivel de estrés de las películas producidas.

Equipamiento e instrumentos

• Sistema de Pulverización Catódica (Magnetron Sputtering). El sistema tiene 3 magnetrones con fuentes DC, RF y HiPIMS para depositar películas metálicas, cerámicas y de óxidos; con ingreso controlado de gases, portamuestras con control de temperatura y soporte de muestra de distancia variable entre el blanco y el sustrato.
• Caracterización electrónica de materiales: analizadores de impedancias Agilent E4990A (20 Hz a 120 MHz) y GwInstekLCR-8000 (20 Hz a 1 MHz), medición de conductividad mediante cuatro puntas, pPuente de Kelvin.
• Molino planetario de 4 jarras que también puede operar en atmósfera controlada
• Microscopio electrónico de barrido: Phenom PRO con análisis elemental por EDS
• Instalaciones para realizar síntesis sol-gel e hidrotermal

Académico responsable

• Rodrigo Espinoza

Contacto

Rodrigo Espinoza
Teléfono: +562 29784239
Correo elecrónico: roespino@ing.uchile.cl